Для цитирования:

Назаренко М.В. Анализ источников магнетронного распыления для осаждения толстых слоев меди с высокой скоростью для изделий микроэлектроники. Russian Technological Journal. 2022;10(5):92-99. https://doi.org/10.32362/2500-316X-2022-10-5-92-99

For citation:

Nazarenko M.V. Comparison of magnetron sputtering systems for high-rate deposition of thick copper layers for microelectronic applications. Russian Technological Journal. 2022;10(5):92-99. https://doi.org/10.32362/2500-316X-2022-10-5-92-99